KNF LABOPORT N 842.3 FTP Diyafram Vakum Pompası

KNF LABOPORT N 842.3 FTP, derin vakum seviyesi gerektiren laboratuvar işlemleri için özel olarak konumlandırılmış, kimyasal dirençli ve yağsız bir diyafram vakum pompasıdır. Agresif buharlı ortamlarda uzun süreli çalışabilmesi için PTFE gövdeli pompa kafaları, PTFE kaplı diyaframlar ve FFPM valflerle donatılmıştır. Bu yapı, korozif maddelerin pompa iç parçalarına temas ettiği zorlu koşullarda bile kararlı performans sağlar. Ayrıca gövdenin sağlam yapısı, cihazın zorlu laboratuvar koşullarında uzun yıllar güvenle kullanılmasına olanak tanır.

34 l/dak akış hızı ve son derece düşük 2 mbar (mutlak) nihai vakum değeriyle N 842.3 FTP, bu aile içinde en derin vakuma ulaşabilen modeller arasındadır; 1 bar (rel.) basınç dayanımıyla da esneklik sunar. 13,4 kg ağırlığındaki gövde, 5-40 °C ortam sıcaklığı aralığında kararlı biçimde çalışır. Kompakt ve sessiz tasarımı, hassas vakum seviyesi gerektiren süreçlerde tezgah üstü kurulum kolaylığı sağlar. Basit kurulum yapısı ve kolay erişilebilir bağlantı noktaları, günlük laboratuvar kullanımında ek pratiklik ve zaman kazancı sağlar.

Ürün Özellikleri:

• 2 mbar (mutlak) son derece düşük nihai vakumla derin vakum gerektiren işlere uygundur
• 34 l/dak akış hızı derin vakuma hızlı ulaşımı destekler
• PTFE gövdeli pompa kafası ve PTFE kaplı diyafram korozif maddelere dayanır
• FFPM valfler agresif buharlı ortamlarda uzun süreli kararlılık sağlar
• 13,4 kg gövdesiyle hassas vakum süreçlerinde tezgah üstü kurulum sunar

Teknik Özellikler:

• Ürün Kodu: SL.K.N842.01022201
• Marka: KNF
• Model: N842.01022201
• Akış Hızı (maks.): 34 l/dak
• Nihai Vakum (maks.): 2 mbar (mutlak)
• Basınç (maks.): 1 bar (rel.)
• Ağırlık: 13,4 kg
• İzin Verilen Ortam Sıcaklığı: 5-40 °C
• Valf Malzemesi: FFPM
• Diyafram Malzemesi: PTFE kaplı
• Pompa Kafası Malzemesi: PTFE
• Çalışma Prensibi: Yağsız, tek kafalı, kuru çalışan

Temel Kullanım Alanları:

• Derin vakum gerektiren freeze-dry ve konsantrasyon işlemlerinde kullanılır
• Hassas distilasyon düzeneklerinde düşük mbar vakum kaynağı olarak devreye girer
• Vakum fırınlarında ve kurutma sistemlerinde derin vakum desteği sağlar
• Agresif kimyasal buharların bulunduğu proseslerde ana vakum ünitesi olur
• Araştırma laboratuvarlarında hassas vakum seviyesi gerektiren deneylerde tercih edilir